天津某半导电子器件打造厂，晶圆生产制作时候中有含硅、氟的专项 污废水 治理，设计的治理企业规模1200吨/日。污废水 治理成分表错综复杂，含有纳米技术级硅小粒及盐酸，过去的治理具体方法不可及格。 废气营养成分及的来源 一般环境工业废气 ：胶体溶液硅（100-500nm粒度分布）、氟化合物（200-300mg/L）、异丙醇 來源工艺流程 ：晶圆刻蚀化工废污水（45%）、CMP药剂学机械制造打蜡 化工废污水（40%）、设配洗水（15%） 除理技艺过程 创新水平进行"普通机械奠定+珍禽膜隔离"水平风格： 钙盐凝固 ：加药氯化钙弄掉氟铁离子（转换成CaF2沉淀出的） 斜板沉淀池的反应 ：塑料水解酸化池剂实行悬浊液硅脱稳 管式微滤 ：0.1μm外径膜挪作他用微细颗粒物 反侵入体统 ：脱盐率>98%，收购率75% 挥发结晶体 ：浓水段满足氟化物零直接排放 进而成果 氟化物氧浓度：<8mg/L（小于国度1级的标准10mg/L） 硅量：<5mg/L 水市场中水回用率：70%应用在放置封闭式冷却塔保湿补水 垃圾减轻：多效蒸发残留量较传统文化工艺流程缩短60%